11月26日下午，公司举办青年学者学术论坛，论坛邀请青年教师黄传鑫博士和曹腾博士作学术报告，公司部分科研教师和员工参加此次学术论坛。

黄传鑫博士作了题为《基于原子层沉积的高性能锌锡氧薄膜晶体管制备与其在CMOS反相器中的应用》的学术报告，主要介绍了使用共溅射和原子层沉积法制备基于高介电常数ZrAlO绝缘层的CMOS反相器。报告首先介绍了氧化物TFT的工作原理、制备方法、一些最新研究进展，然后着重介绍了通过使用高介电常数ZrAlO绝缘层和Si掺杂方法提升器件的稳定性、减小器件功耗的方法，接着使用溶液法制备了p沟道单壁碳纳米管场效应晶体管（SWCNT-FET），并构建了CMOS反相器，并讨论了这两种方法在提升CMOS反相器性能的应用结果，最后总结了原子层沉积技术在氧化物TFT应用方面的的挑战和展望。

曹腾博士作了题为《超声电机的设计与应用研究》的学术报告，报告首先介绍了生活中常见的超声应用实例，以此展开讲解了超声电机的原理和应用场景，并表明超声电机的重要性。报告依据案例重点介绍了超声电机的设计流程，以及不同应用场景下超声电机的设计和测试方法，最后总结了报告重点并对超声电机的前景进行了展望。

此次学术论坛的举办，既为公海gh555000aa线路检测的学术生态注入了新活力，也为青年学者搭建起展示研究成果、碰撞学术思想的优质平台，进一步助推了公司学术交流氛围的深化与发展。

（文图/刘明超  编辑/马启良  审核/李伟)